LSMKMF500步进式光刻机是一种用于制造集成电路的装置，可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。
用途：步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。
主要规格：可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光；线宽：达500nm；可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻；
适用晶片尺寸：样品尺寸不能大于6英寸。
可溅镀的材料：金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta；合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、FeMn、TbFeCo；氧化物类MgO等。
尺寸：170 cm*130 cm*180 cm
产品特点：
高精准度；
桌上型、体积小、内建计算机；
可客制化硬件与软件，以符合业界需求；
弹性适用于各种基底与形状。
应用领域：
中小规模集成电路；
半导体元器件；
声表面波器件的研制和生产；
